کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
6942476 | 1450291 | 2018 | 6 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Inductively coupled plasma nanoetching of atomic layer deposition alumina
ترجمه فارسی عنوان
نانو ذرات پلاسمایی الکتریکی با استفاده از الکترومغناطیسی
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی کامپیوتر
سخت افزارها و معماری
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Microelectronic Engineering - Volume 193, 5 June 2018, Pages 28-33
Journal: Microelectronic Engineering - Volume 193, 5 June 2018, Pages 28-33
نویسندگان
Anpan Han, Bingdong Chang, Matteo Todeschini, Hoa Thanh Le, William Tiddi, Matthias Keil,