کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
6944609 | 1450383 | 2012 | 4 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Lithography-free fabrication of single crystalline silicon tubular nanostructures on large area
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی کامپیوتر
سخت افزارها و معماری
پیش نمایش صفحه اول مقاله
چکیده انگلیسی
⺠We develop facile fabrication for single crystalline Si tubular nanostructures. ⺠Thin metal film is thermally dewetted to form nanodots for etch mask in Si RIE. ⺠Redeposition of metal from nanodot during RIE produces metal rim around nanodot. ⺠Etch rate difference between Si and nanodot/rim results in tubular nanostructure. ⺠Lithography-free and large-area fabrication of tubular nanostructure is proposed.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Microelectronic Engineering - Volume 98, October 2012, Pages 325-328
Journal: Microelectronic Engineering - Volume 98, October 2012, Pages 325-328
نویسندگان
Hak-Kyun Jung, Jungwook Choi, Hyungjoo Na, Dae-Sung Kwon, Min-Ook Kim, Jeong-Jin Kang, Jongbaeg Kim,