کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
726906 | 892657 | 2013 | 4 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Improved L-gate 4H-SiC MESFETs with partial p-type spacer
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
سایر رشته های مهندسی
مهندسی برق و الکترونیک
پیش نمایش صفحه اول مقاله
چکیده انگلیسی
An improved L-gate 4H-SiC metal-semiconductor field-effect-transistor with partial p-type spacer (ILP-MESFET) is proposed and its electrical performance modeled. The saturation drain current of the ILP-MESFET is about 20% higher than that of a conventional (C-)MESFET and very close to that of the LP-MESFET at a gate-source voltage of −4 V. The DC bias point of the ILP-MESFET is improved compared with that of a C-MESFET. The gate-source/drain drift region partial p-type spacer can suppress the gate depletion layer extending to source/drain. The simulation resulted in a gate-source capacitance of the proposed structure that is 26% smaller than a LP-MESFET and points to improved RF performance by ILP structures.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Materials Science in Semiconductor Processing - Volume 16, Issue 2, April 2013, Pages 352–355
Journal: Materials Science in Semiconductor Processing - Volume 16, Issue 2, April 2013, Pages 352–355
نویسندگان
Hujun Jia, Yintang Yang, Hu Zhang,