کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
7907628 | 1510759 | 2018 | 7 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Physical mechanism of refractive index inhomogeneity of hafnium oxide thin film prepared by ion beam sputtering technique
ترجمه فارسی عنوان
مکانیزم فیزیکی ناهمگنی شاخص شکست ناپذیری از فیلم نازک اکسید هافنیوم با روش اسپری شدن پرتو یون
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی مواد
سرامیک و کامپوزیت
چکیده انگلیسی
The HfO2 thin films prepared by ion beam sputtering are thinned after heat treatment. The optical constants of the thin films were obtained by inversion of the ellipsometric parameters. The crystal structure of the films was characterized by X-ray diffractometer. The results show that the correlation coefficient between the refractive index and the grain size is more than 90%. The refractive index increases with the increase of the grain size. The physical mechanism of the refractive index inhomogeneity in the film thickness direction is crystallization of thin films.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Optical Materials - Volume 75, January 2018, Pages 135-141
Journal: Optical Materials - Volume 75, January 2018, Pages 135-141
نویسندگان
Huasong Liu, Lishuan Wang, Shida Li, Yugang Jiang, Dandan Liu, Xiao Yang, Yiqin Ji, Feng Zhang, Deying Chen,