| کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
|---|---|---|---|---|
| 8031935 | 1517675 | 2011 | 6 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Residual stress gradient analysis with GIXRD on ZrO2 thin films deposited by MOCVD
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی مواد
فناوری نانو (نانو تکنولوژی)
پیش نمایش صفحه اول مقاله
چکیده انگلیسی
⺠The study of residual stress in ZrO2 thin films deposited by MOCVD. ⺠The stress gradient measurement in thin film by GIXRD. ⺠The stress generation mechanism of ZrO2 film deposited by MOCVD.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Surface and Coatings Technology - Volume 206, Issues 2â3, 25 October 2011, Pages 405-410
Journal: Surface and Coatings Technology - Volume 206, Issues 2â3, 25 October 2011, Pages 405-410
نویسندگان
Zhe Chen, Nathalie Prud'homme, Bin Wang, Vincent Ji,