کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
8955247 | 1646070 | 2019 | 28 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Effects of deposition angle on synthesis of amorphous carbon nitride thin films prepared by plasma focus device
ترجمه فارسی عنوان
اثرات زاویه ی رسوب در تولید سایش نازک کربن نیترید آمورف تولید شده توسط دستگاه تمرکز پلاسما
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
Carbon nitride thin filmGraphite substrate - بستر گرافیتXRD analysis - تجزیه و تحلیل XRDPlasma focus device - دستگاه تمرکز پلاسماRaman spectroscopy - طیف سنجی رامانFourier transform infrared spectroscopy - طیف سنجی مادون قرمز تبدیل فوریه یا طیف سنجی FTIRScanning electron microscopy - میکروسکوپ الکترونی روبشی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
شیمی
شیمی تئوریک و عملی
چکیده انگلیسی
Amorphous carbon nitride (a-CNx) thin films were deposited on graphite substrate at different angular positions using a low energy (up to 4.9â¯kJ) Mather-type plasma focus device. The deposition processes were carried out during 20 focus shots at optimum nitrogen gas pressure of 0.4â¯mbar. The formation of amorphous carbon nitride was confirmed by Raman Spectroscopy, SEM, EDX, FTIR, and XRD analyses. The intensity ratio of D and G peaks (ID/IG) recorded by Raman Spectroscopy showed two distinct trends at various angular positions. The sample deposited at 30° had the highest ID/IG ratio and correspondingly the highest sp3 CHx content in FTIR spectrum. Samples with lower ID/IG ratio appeared with smaller grain size and more smooth surfaces in SEM images. The highest CN intensities in FTIR spectrum belonged to those samples deposited at 30 and 75° angular positions.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Applied Surface Science - Volume 463, 1 January 2019, Pages 141-149
Journal: Applied Surface Science - Volume 463, 1 January 2019, Pages 141-149
نویسندگان
F.M. Aghamir, A.R. Momen-Baghdadabad, M. Etminan,