کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
9670486 | 1450403 | 2005 | 4 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Dielectric breakdown in SiO2 via electric field induced attached hydrogen defects
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی کامپیوتر
سخت افزارها و معماری
پیش نمایش صفحه اول مقاله
چکیده انگلیسی
We propose a new mechanism for dielectric breakdown in thin gate oxides. Using First Principles calculations, we have found a new meta-stable structure where an interstitial Hydrogen Radical attaches to a network Oxygen without breaking the Si-O bond (Att_Rad state). Calculations in an external electric field find that the energy of the Att_Rad state is reduced. A pair of such Att_Rad states is further stabilized when they form a dimer (Att-Dimer state). This electric field induced Att_Dimer state is thermally accessible for very thin oxides and can form a percolating path that may explain the phenomenon of soft breakdown.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Microelectronic Engineering - Volume 80, 17 June 2005, Pages 174-177
Journal: Microelectronic Engineering - Volume 80, 17 June 2005, Pages 174-177
نویسندگان
Jamil Tahir-Kheli, M. Miyata, W.A. III,