کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
9809786 | 1517716 | 2005 | 5 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Substrate temperature calculation for pulsed bias arc ion plating
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی مواد
فناوری نانو (نانو تکنولوژی)
پیش نمایش صفحه اول مقاله
چکیده انگلیسی
The main factors influencing substrate temperature such as ion bombardment, heat radiation, and heat conductivity are analyzed for Pulsed-Bias Arc Ion Plating (PBAIP). The wave profile of the pulsed bias voltage, varying from â1000 to 0 V, is basically rectangle. This characteristic periodic energy input has an average energy density being equal to the product of that of the DC Arc Ion Plating (DCAIP) and the duty cycle in PBAIP. A temperature model based on energy conservation for the substrate temperature is thus established, which incorporates input ion power, heat radiation and heat conductivity. Experiments are also conducted to verify the calculation.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Surface and Coatings Technology - Volume 194, Issues 2â3, 1 May 2005, Pages 325-329
Journal: Surface and Coatings Technology - Volume 194, Issues 2â3, 1 May 2005, Pages 325-329
نویسندگان
Lin Guoqiang, Bai Xiao, Dong Chuang, Wen Lishi,