کد مقاله کد نشریه سال انتشار مقاله انگلیسی نسخه تمام متن
10639885 995734 2013 6 صفحه PDF دانلود رایگان
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Investigation of charges carrier density in phosphorus and boron doped SiNx:H layers for crystalline silicon solar cells
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه مهندسی مواد مواد الکترونیکی، نوری و مغناطیسی
پیش نمایش صفحه اول مقاله
Investigation of charges carrier density in phosphorus and boron doped SiNx:H layers for crystalline silicon solar cells
چکیده انگلیسی
► We investigate the properties of phosphorus and boron-doped silicon nitride films. ► Phosphorus-doped layers yield higher lifetimes than undoped ones. ► The fixed charges density decreases when increasing the films phosphorus content. ► Boron-doped films feature very low lifetimes. ► These doped layers are of particular interest for crystalline silicon solar cells.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Materials Science and Engineering: B - Volume 178, Issue 9, 15 May 2013, Pages 580-585
نویسندگان
, , ,