کد مقاله کد نشریه سال انتشار مقاله انگلیسی نسخه تمام متن
5356646 1503654 2014 48 صفحه PDF دانلود رایگان
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Historical milestones and future prospects of cluster ion beam technology
ترجمه فارسی عنوان
نقاط قوت تاریخی و چشم انداز آینده فناوری پرتوهای خوشه ای
کلمات کلیدی
پرتو یون خوشه ای، کاربردهای صنعتی، تعامل انرژی پایین، اسپری های جانبی فناوری نانو،
ترجمه چکیده
توسعه فن آوری برای پردازش سطوح با استفاده از پرتوهای یونهای خوشه گاز تنها حدود یک چهارم قرن پیش آغاز شد، هر چند که تحقیقات بنیادی در مورد تولید خوشه های گاز خیلی زود آغاز شد. کاربردهای صنعتی پرتوهای یون خوشه ای آغاز نشده است تا زمانی که تجهیزات تجاری برای اولین بار در سال 2000 به جامعه پرتوهای یونی معرفی گردید. این فناوری در حال حاضر به سرعت در حال پیشرفت است با استفاده از تجهیزات صنعتی که برای بسیاری از برنامه های کاربردی پردازش سطحی طراحی شده است که توسط ویژگی های منحصر به فرد از خواص یون / متقابل سطح جامد. در این مقاله، نقاط عطف تاریخی مهم در توسعه پرتو یون خوشه ای شرح داده شده است. فعالیت های فعلی مربوط به طیف گسترده ای از کاربردهای صنعتی در نیمه هادی ها، دستگاه های مغناطیسی و نوری و دستگاه های زیست پزشکی مورد بررسی قرار گرفته است. چندین پیشرفت جدید در حال ظهور در برنامه های کاربردی پرتوهای خوشه ای برای آینده نیز مورد بحث قرار گرفته است.
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه شیمی شیمی تئوریک و عملی
پیش نمایش مقاله
نقاط قوت تاریخی و چشم انداز آینده فناوری پرتوهای خوشه ای
چکیده انگلیسی
Development of technology for processing of surfaces by means of gas cluster ion beams began only about a quarter century ago even though fundamental research related to generation of gas clusters began much earlier. Industrial applications of cluster ion beams did not start to be explored until commercial equipment was first introduced to the ion beam community in around 2000. The technology is now evolving rapidly with industrial equipment being engineered for many diverse surface processing applications which are made possible by the unique characteristics of cluster-ion/solid-surface interactions. In this paper, important historical milestones in cluster ion beam development are described. Present activities related to a wide range of industrial applications in semiconductors, magnetic and optical devices, and bio-medical devices are reviewed. Several emerging new advances in cluster beam applications for the future are also discussed.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Applied Surface Science - Volume 310, 15 August 2014, Pages 77-88
نویسندگان
,