کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
5362117 | 1388281 | 2012 | 7 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Correlation between molecular secondary ion yield and cluster ion sputtering for samples with different stopping powers
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
شیمی
شیمی تئوریک و عملی
پیش نمایش صفحه اول مقاله
![عکس صفحه اول مقاله: Correlation between molecular secondary ion yield and cluster ion sputtering for samples with different stopping powers Correlation between molecular secondary ion yield and cluster ion sputtering for samples with different stopping powers](/preview/png/5362117.png)
چکیده انگلیسی
⺠Power dependency of secondary ion yield on sputtering yield. ⺠Yield enhancement per primary ion constituent decreases with increasing cluster size. ⺠Prediction of secondary ion yield enhancement as a function of primary ion species. ⺠Prediction of degree of fragmentation of sputtered molecules from different samples.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Applied Surface Science - Volume 258, Issue 18, 1 July 2012, Pages 6993-6999
Journal: Applied Surface Science - Volume 258, Issue 18, 1 July 2012, Pages 6993-6999
نویسندگان
A. Heile, C. Muhmann, D. Lipinsky, H.F. Arlinghaus,