کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
6943649 | 1450363 | 2017 | 5 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Measurement of hydroxyl radicals in wafer cleaning solutions irradiated with megasonic waves
ترجمه فارسی عنوان
اندازه گیری رادیکال های هیدروکسیل در محلول های پاک کننده ویفر با امواج مگاکسون
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
تابش مگاسنیک، رادیکال های هیدروکسیل، راه حل های قلیایی، اسید تترفاتیک، طیف سنجی فلورسانس،
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی کامپیوتر
سخت افزارها و معماری
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Microelectronic Engineering - Brought to you by:GAYATRI VIDYA PARISHAD COLLEGE OF ENGINEERING for Women due by 31 Dec 2017
Journal: Microelectronic Engineering - Brought to you by:GAYATRI VIDYA PARISHAD COLLEGE OF ENGINEERING for Women due by 31 Dec 2017
نویسندگان
M. Keswani, S. Raghavan, R. Govindarajan, I. Brown,