کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
10363100 | 870927 | 2013 | 5 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Formation of high-purity organic thin films by gas flow deposition and the effect of impurities on device characteristics
ترجمه فارسی عنوان
تشکیل فیلم های نازک آلای خالص با رسوب جریان گاز و اثر ناخالصی بر ویژگی های دستگاه
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی کامپیوتر
سخت افزارها و معماری
چکیده انگلیسی
A gas flow deposition (GFD) system was developed to manufacture large-scale organic light-emitting diodes (OLEDs). A N,Nâ²-di(1-naphthyl)-N,Nâ²-diphenylbenzidine (α-NPD) thin film with a high purity of 99.97% was obtained using the GFD system. The film properties such as morphology, and electrical and optical characteristics were almost the same as those of films made by conventional vacuum thermal evaporation.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Displays - Volume 34, Issue 5, December 2013, Pages 418-422
Journal: Displays - Volume 34, Issue 5, December 2013, Pages 418-422
نویسندگان
Kohei Tsugita, Tomohiko Edura, Masayuki Yahiro, Chihaya Adachi,