کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
10376518 | 880581 | 2012 | 6 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Degradation of bare and silanized silicon wafer surfaces by constituents of biological fluids
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی شیمی
شیمی کلوئیدی و سطحی
پیش نمایش صفحه اول مقاله
چکیده انگلیسی
⺠Wafer corrosion during incubation in PBS at 37 °C is due to phosphate. ⺠Alteration of the PEO-silane layer is due to underneath dissolution of SiO2. ⺠Corrosion also occurs in NaHCO3 solution, due to the relatively high pH.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Journal of Colloid and Interface Science - Volume 378, Issue 1, 15 July 2012, Pages 77-82
Journal: Journal of Colloid and Interface Science - Volume 378, Issue 1, 15 July 2012, Pages 77-82
نویسندگان
C.M. Dekeyser, C.C. Buron, S.R. Derclaye, A.M. Jonas, J. Marchand-Brynaert, P.G. Rouxhet,