Structural characterization of V2O5-TiO2 thin films deposited by RF sputtering from a titanium target with vanadium insets

کد مقاله	کد نشریه	سال انتشار	مقاله انگلیسی	نسخه تمام متن
10412869	895271	2005	5 صفحه PDF	دانلود رایگان

عنوان انگلیسی مقاله ISI

رایگان برای ایرانیان

کلمات کلیدی

موضوعات مرتبط

مهندسی و علوم پایه شیمی شیمی آنالیزی یا شیمی تجزیه

پیش نمایش صفحه اول مقاله

چکیده انگلیسی

Conductance data are explained on the basis of these observations.

ناشر

Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Sensors and Actuators B: Chemical - Volume 109, Issue 1, 24 August 2005, Pages 47-51

نویسندگان

I. Alessandri, E. Comini, E. Bontempi, G. Sberveglieri, L.E. Depero,