کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
1513205 | 1511208 | 2012 | 5 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Selective Laser Doping From Boron Silicate Glass
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی انرژی
انرژی (عمومی)
پیش نمایش صفحه اول مقاله
چکیده انگلیسی
Laser-assisted diffusion of dopants is a promising way to produce selective doping structures such as selective emitters or localised BSF with a reduced number of technological steps. This paper discusses laser-induced selective diffusion of boron from two types of borosilicate glasses (BSG) produced either by low-pressure diffusion using a BCl3 gas source or deposited by PECVD from a trimethylborate (TMB) liquid source. Laser parameters were optimised for efficient heat-assisted diffusion of boron atoms with reduced damage to the silicon substrate. Sheet resistance variation of about 60 ohm/sq was measured.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Energy Procedia - Volume 27, 2012, Pages 455-459
Journal: Energy Procedia - Volume 27, 2012, Pages 455-459