کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
1800706 | 1024543 | 2011 | 4 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
New polishing method using water-based slurry under AC electric field for glass substrate
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
فیزیک و نجوم
فیزیک ماده چگال
پیش نمایش صفحه اول مقاله
چکیده انگلیسی
⺠Water-based polishing slurry shows active motion under AC electric field. ⺠Applied electric field gathers the slurry around the polishing area. ⺠Glass polishing removal rate is improved under AC electric field.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Journal of Magnetism and Magnetic Materials - Volume 323, Issue 10, May 2011, Pages 1394-1397
Journal: Journal of Magnetism and Magnetic Materials - Volume 323, Issue 10, May 2011, Pages 1394-1397
نویسندگان
Takayuki Kusumi, Yasuhiro Sato, Yoichi Akagami, Noritsugu Umehara,