کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
180577 | 459383 | 2010 | 5 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Ordered nanopore boring in silicon: Metal-assisted etching using a self-aligned block copolymer Au nanoparticle template and gravity accelerated etching
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی شیمی
مهندسی شیمی (عمومی)
پیش نمایش صفحه اول مقاله

چکیده انگلیسی
Metal-assisted etching into Si (1 0 0) surfaces can be performed in a highly defined and regular arrangement using self-organized patterns of single-size gold catalyst particles that are block polymer templated on Si surfaces. We show that small size catalyst particles (diameter ≈10 nm) can be forced to maintain straight etch tracks perpendicular to the surface using adequate centrifugal gravity force. This allows the creation of highly ordered uniform and synchronized pore boring into the substrate with single pore diameters in the 10 nm range.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Electrochemistry Communications - Volume 12, Issue 4, April 2010, Pages 565–569
Journal: Electrochemistry Communications - Volume 12, Issue 4, April 2010, Pages 565–569
نویسندگان
Sebastian Bauer, Johannes G. Brunner, Himendra Jha, Yukiko Yasukawa, Hidetaka Asoh, Sachiko Ono, Heike Böhm, Joachim P. Spatz, Patrik Schmuki,