کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
182118 | 459417 | 2006 | 5 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Electrochemistry nanometric patterning of MOF particles: Anisotropic metal electrodeposition in Cu/MOF
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی شیمی
مهندسی شیمی (عمومی)
پیش نمایش صفحه اول مقاله

چکیده انگلیسی
Electrodeposition of copper from Cu/MOF immersed into acetate buffer produces a quasi-periodic series of 10–20 nm sized laminae sandwiched within the pristine MOF lattice as monitored by voltammetry of microparticles/atomic force microscopy. This anisotropic patterning can be qualitatively described in terms of a highly orientation-dependent diffusion of electrons and charge-balancing electrolyte counterions in the MOF network.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Electrochemistry Communications - Volume 8, Issue 12, December 2006, Pages 1830–1834
Journal: Electrochemistry Communications - Volume 8, Issue 12, December 2006, Pages 1830–1834
نویسندگان
Antonio Doménech, Hermenegildo Garcı´a, Marı´a Teresa Doménech-Carbó, Francesc Llabrés-i-Xamena,