Application of the quantum Hall effect to resistance metrology

The quantum Hall effect (QHE) discovery has revolutionized metrology by providing with a representation of the unit of resistance, RK, that can be reproduced within a relative uncertainty of one part in 109 and is theoretically only linked to Planckʼs constant h and the electron charge e. This breakthrough also results from the development of resistance comparison bridges using cryogenic current comparator (CCC). The QHE experimental know-how now allows the realization of perfectly quantized Quantum Hall Array Resistance Standards (QHARS) by combining a large number of single Hall bars. In the context of an evolution of the Système International (SI) of units by fixing some fundamental constants of physics, the determination of the von Klitzing constant RK through the use of the so-called Thompson–Lampard calculable capacitor and the realization of refined universality tests of the QHE are of prime importance. Finally, the fascinating graphene material might be a new turning point in resistance metrology.

RésuméLa découverte de lʼeffet Hall quantique (EHQ) a révolutionné la métrologie en fournissant une représentation de lʼunité de résistance, RK, qui peut être reproduite avec une incertitude relative de 10−9 et est théoriquement reliée seulement à la constante de Planck h et la charge de lʼélectron e. Cette révolution sʼest également appuyée sur le développement de ponts de comparaison de résistances équipés de comparateurs cryogéniques de courants (CCC). Le savoir-faire expérimental en EHQ permet désormais la réalisation dʼétalons de résistance combinant de nombreuses barres de Hall élémentaires en réseaux (QHARS) offrant des valeurs parfaitement quantifiées. Dans le contexte dʼune évolution du Système International (SI) dʼunités fondée sur la fixation de certaines constantes de la physique, la détermination de la constante de von Klitzing RK, qui utilise lʼétalon calculable de capacité de Thompson–Lampard, et la réalisation de tests dʼuniversalité de lʼEHQ plus précis sont essentiels. Enfin, le graphène, nouveau matériau fascinant, pourrait marquer un nouveau tournant de la métrologie des résistances.