کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
1864626 | 1530660 | 2006 | 5 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Amorphization of silicon by ion irradiation in dense plasma focus
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
فیزیک و نجوم
فیزیک و نجوم (عمومی)
پیش نمایش صفحه اول مقاله
چکیده انگلیسی
Amorphization of crystalline silicon is achieved by irradiation of energetic argon ions generated in the dense plasma focus. Raman spectroscopy and X-ray diffraction of crystalline and irradiated samples show that crystalline silicon transforms into completely disordered structure through polycrystalline and amorphous phases on increasing the implanted dose.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Physics Letters A - Volume 352, Issues 1–2, 20 March 2006, Pages 150–154
Journal: Physics Letters A - Volume 352, Issues 1–2, 20 March 2006, Pages 150–154
نویسندگان
Mehboob Sadiq, M. Shafiq, A. Waheed, R. Ahmad, M. Zakaullah,