کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
1872383 | 1531004 | 2011 | 4 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Characteristics of plasma source for the plasma polishing of super smooth optics
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
فیزیک و نجوم
فیزیک و نجوم (عمومی)
پیش نمایش صفحه اول مقاله

چکیده انگلیسی
RF excited capacitive coupled hollow cathode (CCHC) plasma source was developed for the fabrication of super smooth optics. The frequency of the RF power was 100 MHz, and the maximum power output was 150W. Optical emission spectroscopy (OES) was used to diagnose the argon plasma generated in the plasma polishing apparatus. Bispectral analysis was used to calculate the argon plasma temperature and electron density. The result shows that when the RF power changed from 40W to 120W the plasma temperature was between 1989K and 2200K. The electron density increased with the increment of the RF power.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Physics Procedia - Volume 19, 2011, Pages 412-415
Journal: Physics Procedia - Volume 19, 2011, Pages 412-415