کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
478829 | 1446167 | 2008 | 13 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Spatial defect pattern recognition on semiconductor wafers using model-based clustering and Bayesian inference
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی کامپیوتر
علوم کامپیوتر (عمومی)
پیش نمایش صفحه اول مقاله
چکیده انگلیسی
Defects on semiconductor wafers tend to cluster and the spatial defect patterns contain useful information about potential problems in the manufacturing process. This study proposes to use model-based clustering algorithms via Bayesian inferences for spatial defect pattern recognition on semiconductor wafers. These new algorithms can find the number of defect clusters as well as identify the pattern of each cluster automatically. They are capable of detecting curvilinear patterns, ellipsoidal patterns and nonuniform global defect patterns. Promising results have been obtained from simulation studies.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: European Journal of Operational Research - Volume 190, Issue 1, 1 October 2008, Pages 228–240
Journal: European Journal of Operational Research - Volume 190, Issue 1, 1 October 2008, Pages 228–240
نویسندگان
Tao Yuan, Way Kuo,