کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
5023600 | 1470262 | 2017 | 15 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Structure and electrical properties of pure and yttrium-doped HfO2 films by chemical solution deposition through layer by layer crystallization process
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
سایر رشته های مهندسی
مهندسی (عمومی)
پیش نمایش صفحه اول مقاله
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Materials & Design - Volume 120, 15 April 2017, Pages 376-381
Journal: Materials & Design - Volume 120, 15 April 2017, Pages 376-381
نویسندگان
Hailong Liang, Jin Xu, Dayu Zhou, Xuexia Wang, Xiaohua Liu, Shichao Chu, Xiaoying Liu,