کد مقاله کد نشریه سال انتشار مقاله انگلیسی نسخه تمام متن
5023600 1470262 2017 15 صفحه PDF دانلود رایگان
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Structure and electrical properties of pure and yttrium-doped HfO2 films by chemical solution deposition through layer by layer crystallization process
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه سایر رشته های مهندسی مهندسی (عمومی)
پیش نمایش صفحه اول مقاله
Structure and electrical properties of pure and yttrium-doped HfO2 films by chemical solution deposition through layer by layer crystallization process
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Materials & Design - Volume 120, 15 April 2017, Pages 376-381
نویسندگان
, , , , , , ,