کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
5488611 | 1524101 | 2017 | 27 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Sputter-deposited low reflectance vanadium oxide-molybdenum oxide thin films on silicon
ترجمه فارسی عنوان
فیلمهای نازک اکسید وانادیوم و اکسید مولیبدن اکسید ضعیف در سیلیکون
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
اکسید وانادیوم-اکسید مولیبدن، فیلم های نازک بازتاب کم مقاومت ورق، انتقال فاز هوشمند،
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
فیزیک و نجوم
فیزیک اتمی و مولکولی و اپتیک
چکیده انگلیسی
A single layer antireflective, smart, crystalline and nanocolumnar pulsed RF magnetron sputtered vanadium oxide-molybdenum oxide thin film on silicon is proposed for the alternate antireflective material for silicon based futuristic solar cell application. The VO-MO film with 130 nm thickness grown at 200 W shows significant low reflectance (1% within the 500-600 nm region). The VO-MO film with lowest reflectance shows a phase transition at around 55 °C which is beneficial due to film inherent variable IR emittance behaviour which may be helpful for eliminating excess heat load generated during in-service of silicon solar cell.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Infrared Physics & Technology - Volume 85, September 2017, Pages 273-279
Journal: Infrared Physics & Technology - Volume 85, September 2017, Pages 273-279
نویسندگان
Manish Kumar Nayak, A. Carmel Mary Esther, Parthasarathi Bera, Arjun Dey,