کد مقاله کد نشریه سال انتشار مقاله انگلیسی نسخه تمام متن
5488611 1524101 2017 27 صفحه PDF دانلود رایگان
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Sputter-deposited low reflectance vanadium oxide-molybdenum oxide thin films on silicon
ترجمه فارسی عنوان
فیلمهای نازک اکسید وانادیوم و اکسید مولیبدن اکسید ضعیف در سیلیکون
کلمات کلیدی
اکسید وانادیوم-اکسید مولیبدن، فیلم های نازک بازتاب کم مقاومت ورق، انتقال فاز هوشمند،
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه فیزیک و نجوم فیزیک اتمی و مولکولی و اپتیک
چکیده انگلیسی
A single layer antireflective, smart, crystalline and nanocolumnar pulsed RF magnetron sputtered vanadium oxide-molybdenum oxide thin film on silicon is proposed for the alternate antireflective material for silicon based futuristic solar cell application. The VO-MO film with 130 nm thickness grown at 200 W shows significant low reflectance (1% within the 500-600 nm region). The VO-MO film with lowest reflectance shows a phase transition at around 55 °C which is beneficial due to film inherent variable IR emittance behaviour which may be helpful for eliminating excess heat load generated during in-service of silicon solar cell.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Infrared Physics & Technology - Volume 85, September 2017, Pages 273-279
نویسندگان
, , , ,