کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
606816 | 1454548 | 2015 | 30 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Detailed statistical contact angle analyses; “slow moving” drops on inclining silicon-oxide surfaces
ترجمه فارسی عنوان
تجزیه و تحلیل زاویه تماس دقیق؛ ؟؟؟؟؟؟؟؟؟؟؟؟؟ قطره روی سطوح سیلیکون اکسید
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
افت فشار سطح ویفر سیلیکون، تحلیل آماری، زاویه تماس، تکان دادن
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی شیمی
شیمی کلوئیدی و سطحی
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Journal of Colloid and Interface Science - Volume 447, 1 June 2015, Pages 229-239
Journal: Journal of Colloid and Interface Science - Volume 447, 1 June 2015, Pages 229-239
نویسندگان
M. Schmitt, K. GroÃ, J. Grub, F. Heib,