کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
609207 | 880618 | 2010 | 6 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Fine-tuning of catalytic tin nanoparticles by the reverse micelle method for direct deposition of silicon nanowires by a plasma-enhanced chemical vapour technique
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی شیمی
شیمی کلوئیدی و سطحی
پیش نمایش صفحه اول مقاله
چکیده انگلیسی
⺠The size of the tin nanoparticles could be fined-turned (85-140 nm) using the reverse micelle technique. ⺠The tin nanoparticles were then used as catalytic precursors to grow silicon nanowires using the plasma-enhanced chemical vapour deposition technique. ⺠The silicon nanowires produced were 76 and 86 nm in diameter, curved and twisted. ⺠The new features of this type of nanowire have the potential to be applied to the development of new photovoltaic devices.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Journal of Colloid and Interface Science - Volume 352, Issue 2, 15 December 2010, Pages 259-264
Journal: Journal of Colloid and Interface Science - Volume 352, Issue 2, 15 December 2010, Pages 259-264
نویسندگان
Gérrard E.J. Poinern, Yan-Jing Ng, Derek Fawcett,