کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
611637 | 880680 | 2008 | 19 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Colloid aspects of chemical-mechanical planarization
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی شیمی
شیمی کلوئیدی و سطحی
پیش نمایش صفحه اول مقاله
چکیده انگلیسی
This review describes the uses of uniform particles (abrasives) and colloid chemical methods to develop a better understanding of the chemical-mechanical planarization (CMP) process.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Journal of Colloid and Interface Science - Volume 320, Issue 1, 1 April 2008, Pages 219-237
Journal: Journal of Colloid and Interface Science - Volume 320, Issue 1, 1 April 2008, Pages 219-237
نویسندگان
E. MatijeviÄ, S.V. Babu,