کد مقاله کد نشریه سال انتشار مقاله انگلیسی نسخه تمام متن
611637 880680 2008 19 صفحه PDF دانلود رایگان
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Colloid aspects of chemical-mechanical planarization
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه مهندسی شیمی شیمی کلوئیدی و سطحی
پیش نمایش صفحه اول مقاله
Colloid aspects of chemical-mechanical planarization
چکیده انگلیسی
This review describes the uses of uniform particles (abrasives) and colloid chemical methods to develop a better understanding of the chemical-mechanical planarization (CMP) process.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Journal of Colloid and Interface Science - Volume 320, Issue 1, 1 April 2008, Pages 219-237
نویسندگان
, ,