کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
6998009 | 1454569 | 2014 | 7 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Facile routes of manufacturing silicon quantum dots on a silicon wafer and their surface activation by esters of N-hydroxysuccinimide
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی شیمی
شیمی کلوئیدی و سطحی
پیش نمایش صفحه اول مقاله
![عکس صفحه اول مقاله: Facile routes of manufacturing silicon quantum dots on a silicon wafer and their surface activation by esters of N-hydroxysuccinimide Facile routes of manufacturing silicon quantum dots on a silicon wafer and their surface activation by esters of N-hydroxysuccinimide](/preview/png/6998009.png)
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Journal of Colloid and Interface Science - Volume 426, 15 July 2014, Pages 117-123
Journal: Journal of Colloid and Interface Science - Volume 426, 15 July 2014, Pages 117-123
نویسندگان
Xiang Liu, Heming Cheng, Tiantian Zhao, Changchang Zhang,