کد مقاله کد نشریه سال انتشار مقاله انگلیسی نسخه تمام متن
7000433 1454603 2013 7 صفحه PDF دانلود رایگان
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Colloidal lithography using silica particles: Improved particle distribution and tunable wetting properties
ترجمه فارسی عنوان
لیتوگرافی کلوئیدی با استفاده از ذرات سیلیس: توزیع ذرات بهبود یافته و خواص ترمیم قابل تنظیم
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه مهندسی شیمی شیمی کلوئیدی و سطحی
چکیده انگلیسی
► Colloidal lithography is used to modify large surface areas at the nanoscale level. ► Aggregate formation occurs at the drying step if large hydrophilic colloids are used. ► Aggregation is avoided when a macromolecular layer is adsorbed on the colloids. ► Obtained surfaces are hydrophobic and switch to very hydrophilic when calcinated.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Journal of Colloid and Interface Science - Volume 392, 15 February 2013, Pages 219-225
نویسندگان
, , ,