کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
7116631 | 1461204 | 2017 | 6 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Sequential microcontroller-based control for a chemical vapor deposition process
ترجمه فارسی عنوان
کنترل مبتنی بر میکروکنترلر برای یک فرایند رسوب شیمیایی
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
میکروکنترلر، رسوبات بخار شیمیایی، تزریق مستقیم مایع فیلم های نازک
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
سایر رشته های مهندسی
کنترل و سیستم های مهندسی
چکیده انگلیسی
A cost-effective direct liquid injection system is developed for a chemical vapor deposition process using a microcontroller. The precursor gas phase is controlled by the precise sequential injection of a liquid precursor solution to a vaporizing chamber prior deposition. The electronic control system allows the human-machine interface through a LCD display and a keypad matrix. The core of the electronic system is based on an electro mechanical injector operated in time and frequency as a sequential control system by a popular PIC16F877A chip. The software has been developed in the BASIC language and it can be easily modified through an ICSP programmer for different sequential automatized routines. The injection calibration test has proven the linearity of the injection control system for different operation parameters. The results reported the sequential injection MOCVD deposition of alumina thin film.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Journal of Applied Research and Technology - Volume 15, Issue 6, December 2017, Pages 593-598
Journal: Journal of Applied Research and Technology - Volume 15, Issue 6, December 2017, Pages 593-598
نویسندگان
Edgar Serrano Pérez, Javier Serrano Pérez, Fernando MartÃnez Piñón, José Manuel Juárez GarcÃa, Omar Serrano Pérez, Fernando Juárez López,