کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
7130026 | 1461616 | 2016 | 5 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Fabrication of 250-nm-hole arrays in glass and fused silica by UV laser ablation
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
سایر رشته های مهندسی
مهندسی برق و الکترونیک
پیش نمایش صفحه اول مقاله
![عکس صفحه اول مقاله: Fabrication of 250-nm-hole arrays in glass and fused silica by UV laser ablation Fabrication of 250-nm-hole arrays in glass and fused silica by UV laser ablation](/preview/png/7130026.png)
چکیده انگلیسی
Parallel nanohole drilling in glass using an ArF excimer laser (193Â nm) is demonstrated. For the first time, hole arrays with 500Â nm pitch and individual holes with 250Â nm diameter and more than 100Â nm depth are fabricated by phase mask imaging using a Schwarzschild objective. Holes in soda lime glass are drilled by direct ablation; fused silica is processed by depositing a SiOx-film on SiO2, patterning the SiOx by ablation, and finally oxidizing the remaining SiOx to SiO2. Thermally induced ordered dewetting of noble metal films deposited on such templates may be used for the fabrication of plasmonic devices.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Optics & Laser Technology - Volume 83, September 2016, Pages 16-20
Journal: Optics & Laser Technology - Volume 83, September 2016, Pages 16-20
نویسندگان
R. Karstens, A. Gödecke, A. PrieÃner, J. Ihlemann,