کد مقاله کد نشریه سال انتشار مقاله انگلیسی نسخه تمام متن
7176962 1466742 2015 8 صفحه PDF دانلود رایگان
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Development and characterization of ultra high aspect ratio microstructures made by ultra deep X-ray lithography
ترجمه فارسی عنوان
توسعه و مشخص ساختن ریز ساختارهای نسبتا بالای نسبت به لیتوگرافی اشعه ایکس عمیق
کلمات کلیدی
ساخت میکرو، لیتوگرافی عمیق اشعه ایکس، مقاومت در برابر ریخته گری، نسبت ابعاد بزرگ،
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه سایر رشته های مهندسی مهندسی صنعتی و تولید
چکیده انگلیسی
A technique of casting of thick pre-polymer layers was developed based on the proposed model of diluent evaporation. For the first time, microstructures with 7 mm height and up to 18 microns wide (an aspect ratio of up to 389) were manufactured by means of ultra deep X-ray lithography in a cured pre-polymer that can be functionalized. The microstructures were characterized. The difference in the size of patterned microstructures and their initial size on the X-ray mask decreases to 400 nm with the lessening lateral dimension of the microstructures from 1500 to 18 μm. The sidewall roughness also decreases to 20 nm.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Journal of Materials Processing Technology - Volume 225, November 2015, Pages 170-177
نویسندگان
, , , , ,