کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
7176962 | 1466742 | 2015 | 8 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Development and characterization of ultra high aspect ratio microstructures made by ultra deep X-ray lithography
ترجمه فارسی عنوان
توسعه و مشخص ساختن ریز ساختارهای نسبتا بالای نسبت به لیتوگرافی اشعه ایکس عمیق
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
ساخت میکرو، لیتوگرافی عمیق اشعه ایکس، مقاومت در برابر ریخته گری، نسبت ابعاد بزرگ،
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
سایر رشته های مهندسی
مهندسی صنعتی و تولید
چکیده انگلیسی
A technique of casting of thick pre-polymer layers was developed based on the proposed model of diluent evaporation. For the first time, microstructures with 7 mm height and up to 18 microns wide (an aspect ratio of up to 389) were manufactured by means of ultra deep X-ray lithography in a cured pre-polymer that can be functionalized. The microstructures were characterized. The difference in the size of patterned microstructures and their initial size on the X-ray mask decreases to 400 nm with the lessening lateral dimension of the microstructures from 1500 to 18 μm. The sidewall roughness also decreases to 20 nm.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Journal of Materials Processing Technology - Volume 225, November 2015, Pages 170-177
Journal: Journal of Materials Processing Technology - Volume 225, November 2015, Pages 170-177
نویسندگان
Vladimir Nazmov, Elena Reznikova, Juergen Mohr, Joachim Schulz, Anja Voigt,