| کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن | 
|---|---|---|---|---|
| 7216983 | 1470229 | 2018 | 27 صفحه PDF | دانلود رایگان | 
عنوان انگلیسی مقاله ISI
												Design optimisation of C ion implantation of α-Al2O3 for medical dosimetry
												
											دانلود مقاله + سفارش ترجمه
													دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
																																												کلمات کلیدی
												
											موضوعات مرتبط
												
													مهندسی و علوم پایه
													سایر رشته های مهندسی
													مهندسی (عمومی)
												
											پیش نمایش صفحه اول مقاله
												
												چکیده انگلیسی
												Present work investigates the medical dosimetric properties of 100â¯keV C ion implanted single crystalline α-Al2O3 and sapphire. This is a novel method for doping for dosimetry applications.173
											ناشر
												Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Materials & Design - Volume 153, 5 September 2018, Pages 317-326
											Journal: Materials & Design - Volume 153, 5 September 2018, Pages 317-326
نویسندگان
												Mini Agarwal, S.K. Garg, K. Asokan, S. Thulkar, S. Chander, M.K. Dalai, Pratik Kumar,