کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
7216983 | 1470229 | 2018 | 27 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Design optimisation of C ion implantation of α-Al2O3 for medical dosimetry
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
سایر رشته های مهندسی
مهندسی (عمومی)
پیش نمایش صفحه اول مقاله
![عکس صفحه اول مقاله: Design optimisation of C ion implantation of α-Al2O3 for medical dosimetry Design optimisation of C ion implantation of α-Al2O3 for medical dosimetry](/preview/png/7216983.png)
چکیده انگلیسی
Present work investigates the medical dosimetric properties of 100â¯keV C ion implanted single crystalline α-Al2O3 and sapphire. This is a novel method for doping for dosimetry applications.173
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Materials & Design - Volume 153, 5 September 2018, Pages 317-326
Journal: Materials & Design - Volume 153, 5 September 2018, Pages 317-326
نویسندگان
Mini Agarwal, S.K. Garg, K. Asokan, S. Thulkar, S. Chander, M.K. Dalai, Pratik Kumar,