کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
736566 | 893874 | 2010 | 5 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Rapid prototyping of silicon microstructures by means of a new masking process and crystal orientation dependent etching
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
شیمی
الکتروشیمی
پیش نمایش صفحه اول مقاله
![عکس صفحه اول مقاله: Rapid prototyping of silicon microstructures by means of a new masking process and crystal orientation dependent etching Rapid prototyping of silicon microstructures by means of a new masking process and crystal orientation dependent etching](/preview/png/736566.png)
چکیده انگلیسی
Silicon micromachining for MEMS components requires deep etching processes in combination with etch-resistant masks. The usual masking and lithographic procedures are expensive and unsuitable for fast layout changes. We developed a machining possibility, which combines the flexibility of laser direct writing with the shape quality of crystal orientation dependent etching of silicon. The main step is substituting SiO2 or Si3N4 mask layers by etch-resistant metal films. These films can be directly patterned with a laser marking system followed by a well-known etch process in KOH.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Sensors and Actuators A: Physical - Volume 163, Issue 1, September 2010, Pages 388–392
Journal: Sensors and Actuators A: Physical - Volume 163, Issue 1, September 2010, Pages 388–392
نویسندگان
David Hilbig, Birgit Hannemann,