کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
740634 | 894175 | 2006 | 7 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Development of process for far infrared sensor fabrication
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
شیمی
الکتروشیمی
پیش نمایش صفحه اول مقاله
![عکس صفحه اول مقاله: Development of process for far infrared sensor fabrication Development of process for far infrared sensor fabrication](/preview/png/740634.png)
چکیده انگلیسی
The production of bolometers involves various processes. Those which are most likely to interfere with the operation of the sensors are the depositon of the porous gold (gold-black) layer used as an infrared absorber and the poly-Si etching used to form resistive devices. In this paper, we present an appropriate process for the deposition of porous gold for far-infrared detection, and provide a comparison of wet and plasma etching of poly-Si.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Sensors and Actuators A: Physical - Volume 132, Issue 1, 8 November 2006, Pages 400–406
Journal: Sensors and Actuators A: Physical - Volume 132, Issue 1, 8 November 2006, Pages 400–406
نویسندگان
Roberto R. Neli, Ioshiaki Doi, José A. Diniz, Jacobus W. Swart,