![این مقاله در پایگاه ساینس دایرکت منتشر شده است Elsevier - ScienceDirect - الزویر - ساینس دایرکت](/assets/img/Elsevier-Logo.png)
Heavy carbon atomic-layer doping at Si1 − xGex/Si heterointerface
Keywords: دوپینگ لایه اتمی; Atomic-layer doping; C; Si; SiGe; Chemical vapor deposition (CVD); Epitaxial growth; Hetereointerface; Strain; Intermixing