![این مقاله در پایگاه ساینس دایرکت منتشر شده است Elsevier - ScienceDirect - الزویر - ساینس دایرکت](/assets/img/Elsevier-Logo.png)
Predictive simulation framework for boron diffused p+ layer optimization: Sensitivity analysis of boron tube diffusion process parameters of industrial n-type silicon wafer solar cells
Keywords: انتشار بور; Silicon solar cells; Boron diffusion; Device simulation; N-type Si; Process simulation; Process control; Sensitivity analysis;