![این مقاله در پایگاه ساینس دایرکت منتشر شده است Elsevier - ScienceDirect - الزویر - ساینس دایرکت](/assets/img/Elsevier-Logo.png)
Defect creation in amorphous HfO2 facilitated by hole and electron injection
Keywords: نقص Frenkel; Amorphous HfO2; RRAM; Frenkel defects; Density Functional Theory; Electron injection; Thin films;