![این مقاله در پایگاه ساینس دایرکت منتشر شده است Elsevier - ScienceDirect - الزویر - ساینس دایرکت](/assets/img/Elsevier-Logo.png)
Changes in the structural and electrical properties of vacuum post-annealed tungsten- and titanium-doped indium oxide films deposited by radio frequency magnetron sputtering
Keywords: اکسید هیدروژن; Transparent conducting oxides; Structural properties; Electrical properties; Electron mobility; Annealing; Indium oxides; Doped oxides; Sputtering