![این مقاله در پایگاه ساینس دایرکت منتشر شده است Elsevier - ScienceDirect - الزویر - ساینس دایرکت](/assets/img/Elsevier-Logo.png)
Statistical modeling of the electrical characteristics for HfO2 thin films grown by MOMBE for high-k dielectric applications
Keywords: تلفن همراه; Process modeling; Regression model; Statistical analysis; HfO2; MOMBE