![این مقاله در پایگاه ساینس دایرکت منتشر شده است Elsevier - ScienceDirect - الزویر - ساینس دایرکت](/assets/img/Elsevier-Logo.png)
Plasma-deposited silicon oxide barrier films on polyethersulfone substrates: temperature and thickness effects
Keywords: پلی اترسولفون; PECVD; Silicon oxide; Gas barrier; Polyethersulfone; Permeation;