![این مقاله در پایگاه ساینس دایرکت منتشر شده است Elsevier - ScienceDirect - الزویر - ساینس دایرکت](/assets/img/Elsevier-Logo.png)
Modelling of plasma etching process using radial basis function network and genetic algorithm
Keywords: شبکه تابع اساس شعاعی; Plasma etching; Radial basis function network; Genetic algorithm; Statistical regression model;