![این مقاله در پایگاه ساینس دایرکت منتشر شده است Elsevier - ScienceDirect - الزویر - ساینس دایرکت](/assets/img/Elsevier-Logo.png)
Parallel langmuir processes for silicon epitaxial growth in a SiHCl3-SiHx-H2 system
Keywords: هیدرید سیلیکون; Silicon epitaxial growth; Parallel Langmuir processes; Trichlorosilane; Silicon hydrides;