کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
10128765 | 1645147 | 2018 | 4 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Plasma states and carbon film deposition in glow discharge connected to dielectric barrier discharge
ترجمه فارسی عنوان
حالت های پلاسما و رسوب کربن فیلم در تخلیه تابشی متصل به تخلیه مانع دی الکتریک
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی مواد
سطوح، پوششها و فیلمها
چکیده انگلیسی
We developed a plasma source by connecting a direct current glow discharge (GD) with a dielectric barrier discharge (DBD) via a ground mesh (DB-GD). Based on the Langmuir probe measurements, the electron density of the DB-GD increased and the electron temperature decreased compared with those of the GD. Calculations of the electron energy distribution functions revealed that the DB-GD possessed a lower density of high-energy electrons and higher density of low-energy electrons than the GD did. We also confirmed that the DB-GD generated with methane gas was capable of producing an amorphous carbon film.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Vacuum - Volume 157, November 2018, Pages 155-158
Journal: Vacuum - Volume 157, November 2018, Pages 155-158
نویسندگان
Takanori Yamamoto, Riichiro Ohta,