کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
10364961 | 871892 | 2005 | 13 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Multi-vibrational hydrogen release: Physical origin of Tbd,Qbd power-law voltage dependence of oxide breakdown in ultra-thin gate oxides
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی کامپیوتر
سخت افزارها و معماری
پیش نمایش صفحه اول مقاله

چکیده انگلیسی
In this work we report an experimental observation of the current dependence on the defect generation probability driving to breakdown. We propose the MVHR model (multi-vibrational hydrogen release) based on the multi-vibrational excitation of the Si-H bond stretching mode. By this way we explain the power-law dependence of charge and time to breakdown and highlight its limit on PMOS inversion.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Microelectronics Reliability - Volume 45, Issue 12, December 2005, Pages 1842-1854
Journal: Microelectronics Reliability - Volume 45, Issue 12, December 2005, Pages 1842-1854
نویسندگان
G. Ribes, S. Bruyère, M. Denais, F. Monsieur, V. Huard, D. Roy, G. Ghibaudo,