کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
10565912 | 972133 | 2014 | 9 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Metal deposition for optoelectronic devices using a low vacuum vapor phase deposition (VPD) system
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
شیمی
شیمی (عمومی)
پیش نمایش صفحه اول مقاله
![عکس صفحه اول مقاله: Metal deposition for optoelectronic devices using a low vacuum vapor phase deposition (VPD) system Metal deposition for optoelectronic devices using a low vacuum vapor phase deposition (VPD) system](/preview/png/10565912.png)
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Organic Electronics - Volume 15, Issue 11, November 2014, Pages 3052-3060
Journal: Organic Electronics - Volume 15, Issue 11, November 2014, Pages 3052-3060
نویسندگان
Francisco F. Navarro, Peter I. Djurovich, Mark E. Thompson,