کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
10635352 | 993518 | 2005 | 4 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Bulk instability of nickel disilicide at reduced temperatures
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی مواد
سرامیک و کامپوزیت
پیش نمایش صفحه اول مقاله
چکیده انگلیسی
Bulk alloy annealing experiments indicate that a NiSi + Si â NiSi2 eutectoid reaction exists in the Ni-Si binary system between 705 and 735 °C. The eutectoid temperature is consistent with temperatures often observed for the nickel monosilicide-to-disilicide transformation in nickel silicide thin films on crystalline silicon substrates.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Scripta Materialia - Volume 53, Issue 6, September 2005, Pages 735-738
Journal: Scripta Materialia - Volume 53, Issue 6, September 2005, Pages 735-738
نویسندگان
M.E. Loomans, D.Z. Chi, S.J. Chua,