کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
10639889 | 995734 | 2013 | 8 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Effect of Nd3+ incorporation on the microstructure and chemical structure of RF sputtered ZnO thin films
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی مواد
مواد الکترونیکی، نوری و مغناطیسی
پیش نمایش صفحه اول مقاله
چکیده انگلیسی
⺠Effects of Nd incorporation on ZnO thin films chemical and structural properties. ⺠Very low Nd concentrations were quantified by combining XRF and AES data. ⺠At low Nd concentration, Nd ions were successfully incorporated in the ZnO lattice. ⺠Structural changes turns up with increasing Nd doping level. ⺠At high Nd concentration, precipitation of a Nd2O3 separate phase occurs.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Materials Science and Engineering: B - Volume 178, Issue 9, 15 May 2013, Pages 609-616
Journal: Materials Science and Engineering: B - Volume 178, Issue 9, 15 May 2013, Pages 609-616
نویسندگان
Gloria Gottardi, Rajesh Pandiyan, Victor Micheli, Giancarlo Pepponi, Salvatore Gennaro, Ruben Bartali, Nadhira Laidani,