کد مقاله کد نشریه سال انتشار مقاله انگلیسی نسخه تمام متن
10640127 995872 2005 4 صفحه PDF دانلود رایگان
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Study on range distribution parameters for fluorine ion implantation in KTiOAsO4 crystals at low velocity
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه مهندسی مواد مواد الکترونیکی، نوری و مغناطیسی
پیش نمایش صفحه اول مقاله
Study on range distribution parameters for fluorine ion implantation in KTiOAsO4 crystals at low velocity
چکیده انگلیسی
Range distributions for fluorine ions in 19F+-implanted KTiOAsO4 (KTA) in an energy range of 80-350 keV were measured by using the 19F(p, αγ)16O resonant nuclear reaction at ER = 872.1 keV, with width Γ = 4.2 keV. A proper convolution calculation method was used to extract the true distributions of fluorine from the experimental excitation yield curves. The experimental range distribution parameters, Rp and ΔRp, were compared with those obtained from Monte Carlo simulation codes.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Materials Science and Engineering: B - Volume 117, Issue 3, 25 March 2005, Pages 355-358
نویسندگان
, , , , , , , ,